Transferencia de patrones

La alineadora de máscara es una Midas MDA-400M que puede operar con diferentes modos de contactos (fuerte, vacío, proximidad). Permite transferir patrones a obleas de 3"- 4" de diámetro y sustratos pequeñas usando fotomáscaras cuadradas de 5" × 5”. La iluminación que utiliza es UV 365 nm. La dosis y tiempo de exposición son controlados por computadora.

Sistema MicroWriter ML®3 que ofrece resoluciones (0,6 μm, 1 μm, 2 μm y 5 μm) Trabaja con archivos en formatos CADs: CIF, BMP, TIFF y GDSII que pueden ser seleccionadas automáticamente a través del software y sin que el usuario tenga que cambiar ninguna lente manualmente. Permite elaborar diseños con un área de escritura máxima de 195 mm x 195 mm. Posee cámara de microscopio óptico infinito conjugado de alta calidad, con lentes Olympus 5x, 10x y 20x e iluminación de luz amarilla para la alineación de marcadores litográficos en la oblea (± 0.5μm precisión de alineación). Rejilla direccionable mínima de 100nm; tamaño mínimo de paso de la etapa de muestra de 50nm.

Nanoimpresora Nanonex NX-2000 es un sistema para transferir patrones nanométricos usando la técnica de impresión. Tiene la capacidad de imprimir patrones con nanoestructuras tridimensionales y con resolución de menos de 10 nm. Incluye todas las formas de nano-impresión, tales como termoplástico, curable por calor e impresión directa (relieve). Ofrece solución a necesidades en un espectro amplio de aplicaciones: dispositivos ópticos, pantallas, almacenamiento de datos, biotecnología, circuitos integrados de semiconductores, síntesis química y materiales avanzados.